光學(xué)顯微鏡(OM)

　　技術(shù)原理

　　光學(xué)顯微鏡的成像原理，是利用可見光照射在試片表面造成局部散射或反射來形成不同的對比，然而因?yàn)榭梢姽獾牟ㄩL高達(dá)4000-7000埃，在解析度(或謂鑒別率、解像能，系指兩點(diǎn)能被分辨的*近距離)的考量上，自然是*差的。在一般的操作下，由于肉眼的鑒別率僅有0.2 mm，當(dāng)光學(xué)顯微鏡的*佳解析度只有0.2 um 時(shí)，理論上的*高放大倍率只有1000 X，放大倍率有限，但視野卻反而是各種成像系統(tǒng)中*大的，這說明了光學(xué)顯微鏡的觀察事實(shí)上仍能提供許多初步的結(jié)構(gòu)資料。

　　機(jī)臺種類

　　分析應(yīng)用

　　光學(xué)顯微鏡的放大倍率及解析度，雖無法滿足許多材料表面觀察之需求，但仍廣泛應(yīng)用于下列之各項(xiàng)應(yīng)用，諸如：

　　元件橫截面結(jié)構(gòu)觀察；

　　平面式去層次 (Delayer) 結(jié)構(gòu)分析與觀察；

　　析出物空乏區(qū) (Precipitate Free Zone) 的觀察；

　　差排線與過蝕刻(Overetch)凹痕的觀察；

　　氧化疊差(Oxidation Enhanced Stacking Faults, OSF)的研究等。